第929章-第2/2页

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        “哦,真复杂!”李秀成做出一脸我很懵的表情,然后话锋一转道:“但我大致抓到了两个重点,光源、物镜折射率!

        想要提升芯片的生产效率和良率,是必须要同时发展光刻机的内部构造和工作模式。

        那么我们可以从整体因素考虑,为什么不换一种光源,然后再换一种折射介质?”

        “嗯?”周宏回过神来,有些奇怪的说道:“现在光线就G线和I线两种,波长在三百多到四百左右,确实比较大,而且国际上的公同认知是在193nm缩短到157nm制程时会出现瓶颈。

        但折射介质是什么说法?”

        见周宏来了兴趣,李秀成嘴角微勾然后迅速恢复原状。

        这也就是现在的干式微影光刻机和浸没式光刻机的最大区别了!

        他故意做出一脸不确定的说道:“光线我觉得可以多做试验,把什么XYZ射线啊,紫外线,极光都试试,总能找到最合适的。


    本章完

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